真空下での温度計測（サファイヤ隔膜真空計）
13 Paレンジサファイア隔膜真空計の開発
これまで開発してきたサファイア真空計の計測圧力レンジは主として半導体製造装置のCVD、ALDなどの成膜プロセスをターゲットとして133Paから133kPaであった。これを13Paまで広げることにより今まで対象外とされていたエッチングやスパッタ成膜への適用を図った。大気圧の1/10000の圧力をフルスケールとするため、ダイアフラムを20umまで薄くするなど困難な加工技術が求められる。さらにその薄いダイアフラムに起因するスティキング、圧力ヒステリシスなど133Pa以上のレンジでは顕在化しなかった様々な技術的課題を解決することにより、 これまでにない200℃までの自己加熱が可能な静電容量式隔膜真空計を実現した。これにより低真空でも高温計測が必要な新しいプロセスアプリケーションへの適用が可能となったのでここに報告する。
アズビル株式会社 技術開発本部 石原 卓也
アズビル株式会社 技術開発本部 添田 将
アズビル株式会社 技術開発本部 関根 正志
アズビル株式会社 技術開発本部 栃木 偉伸